電鍍生產(chǎn)使用的原輔料較多，除使用鍍種對(duì)應(yīng)的金屬鹽外，還使用了大量無機(jī)和有機(jī)材料，其中包括無機(jī)配位劑與有機(jī)配位劑，常見的無機(jī)配位劑有氰根、焦磷酸根、多磷酸根、氨等，有機(jī)配位劑主要包括有機(jī)酸、有機(jī)膦和胺三類，這些配位劑會(huì)與金屬離子形成溶解態(tài)的配合物。

　　含溶解態(tài)配合物的電鍍廢水僅用普通化學(xué)沉淀法處理的效果有限，需先采用氧化、酸化水解等方法去除配位劑，使得金屬離子游離在溶液中后，再添加化學(xué)沉淀劑進(jìn)行沉淀。有的電鍍企業(yè)或園區(qū)目前仍采用單一的化學(xué)沉淀法來處理電鍍廢水，無去除配位劑的破絡(luò)環(huán)節(jié)，或是有破絡(luò)環(huán)節(jié)但破絡(luò)不徹底，這些因素均會(huì)造成鎳、銅、鋅等金屬離子存在于溶解態(tài)的配合物中，難以通過化學(xué)法沉淀去除，從而導(dǎo)致出水超標(biāo)。另外，氫氧化鋅、氫氧化鉻(III)等屬于兩性氫氧化物，若pH調(diào)節(jié)不當(dāng)(過高或過低)，均會(huì)造成沉淀不完全，影響去除效果。